专利名称：高新循环水电解除垢装置技术
技术领域：
本高新技术涉及一种水处理装置，尤其是一种循环水电解除垢装置。
背景技术：
目前，现有技术的除垢方法有离子交换法、活性碳吸附法、化学除垢法等，这些方 法效果不理想，操作强度大，效率低，成本高，对设备有一定的损害，存在经常拆洗和除垢不 彻底而堵塞管道的问题。
实用新型内容为了克服现有水处理装置除垢方法的不足，本高新技术提供一种循环水电解除垢
直ο本高新技术解决其技术问题所采用的技术方案是循环水电解除垢装置，包括反应室、进水口及进水阀、出水口及出水阀、排污口及 排污阀、阳极、控制系统、端盖、支架；端盖与反应室上端通过螺栓和密封垫密封连接；反应 室内壁设有滤板安装环，其上设有滤板，滤板将反应室分为上、下两部分，上部分的内壁涂 衬环氧聚酯涂层；阳极通过密封环穿过滤板并固定在端盖上；进水阀与出水阀之间设有通管。本高新技术的有益效果是，采用PLC或单片机控制系统自动除垢清洗，清洗稳定 有效，反应中可生成游离氯，具有自动杀菌灭藻，去垢并软化水质的功能，结构紧凑，稳固耐 用，安全可靠，适合用于循环冷却水的杀菌灭藻和除垢防蚀使用。
图1是本高新技术结构示意图。图中零部件及编号1 一电极盒；2 —阳极；3 —出水口 ；4 一进水口 ；5 —排污口 ；6 一出水阀；7 —进水阀；8 —排污阀；9 一滤板安装环；10 —密封圈；11 一密封环；12 —端盖；13 —螺栓；14 一密封垫；15 —滤板；16 一反应室；17 —支架；18 一控制系统；19 一排气阀；20 一通管。
具体实施方式
以下结合附图和实施例对本高新技术进一步说明。如图1所示，循环水电解除垢装置，包括反应室16、进水口 4及进水阀7、出水口 3 及出水阀6、排污口 5及排污阀8、阳极2、控制系统18、端盖12、支架17 ；端盖12与反应室 16上端通过螺栓13和密封垫14密封连接；反应室16内壁设有滤板安装环9，其上设有滤 板15，滤板15将反应室16分为上、下两部分，上部分的内壁涂衬环氧聚酯涂层；阳极2通 过密封环11穿过滤板15并固定在端盖12上；进水阀7与出水阀6之间设有通管20。[0015]滤板15与滤板安装环9通过螺栓和密封圈10压紧连接。出水阀6、进水阀7和排污阀8为气动阀或电动阀，其中出水阀6、进水阀7为三通 阀，排污阀8为直通阀。出水阀6、进水阀7和排污阀8分别通过控制线缆与控制系统18相连。反应室16为碳钢、不锈钢或铝材料。控制系统18内设有PLC或单片机。实施过程反应室16的内壁充当电解反应的阴极，其电流密度可达到ΙΟΑ/m2 ；反应室16内 的阳极2通过密封环11穿过滤板15并固定在端盖12上，与电极盒1相连，作为系统内的 阳极；阳极2长度与反应室16的直壁高度相等，置于反应室16内，可使电解反应进行充分。 反应室16采用碳钢、不锈钢或铝等金属材料，其外表涂有环氧树脂保护层，具有电绝缘和 防腐作用；反应室16的底部为球形或圆锥形，其底部内表面涂衬环氧树脂层，避免在反应 室16底部附着水垢，同时具有防腐作用，反应室16固定在三腿或者四腿的支架17上。进水口 4设在反应室16侧面的下部，呈切线方向与反应室16连接，出水口 3设在 同一侧上部，排污口 5设在反应室16的底部，可使进水呈切线方向进入罐体，形成涡流，同 时满足水在反应室16内充分反应又能在一定程度上减少水垢在反应室16内壁上附着。端盖12和反应室16上的法兰通过螺栓13和密封垫14密封连接，防止水从反应 室16中溢出，并可防止氯气溢出，提高杀菌效果。排气阀19以螺纹密封安装在端盖12上， 可以保证反应室16内压力平衡，防止因压力不均造成的事故发生。滤板15通过螺栓和密封圈10压紧连接在滤板安装环9上，滤板15通过密封圈10 和密封环11将反应室16分为两个部分，上部分的内壁涂衬环氧聚酯涂层与阳极2绝缘做 为清水室，下部分为电解除垢室，滤板15能够确保电解生成的水垢不会随着出水而排出， 不影响出水水质。控制系统18由电极电源和除垢控制器两部分组成，分别实现供电和控制功能，电 极电源采用恒压恒流电源，满足高标准供电需求。循环水电解除垢装置有2个工作状态，即电解结垢状态和清洗除垢状态在电解除垢状态下被处理的水从进水口 4流入该装置，通过滤板15从出水口 3 流出该装置。该装置启动后，反应室16的内壁作为电解反应的阴极和阳极2之间产生电化 学反应，可预先将水中的钙镁离子转化为不溶性矿物质即水垢沉积在反应室16的内壁上， 即所谓预先结垢，同时阳极2附近析出的氯气，具有杀死细菌和水藻的作用。在清洗除垢状态下当时间到达指定值时，会启动清洗除垢过程。控制系统18控 制进水阀7和出水阀6动作，通过通管20从出水口 3进入反应室16内，对罐体内部进行反 冲洗，并开启排污阀8，通过排污口 5将含水垢的水排出，清洗时间到后，控制系统18关闭排 污阀8，恢复进水阀7和出水阀6状态，恢复到电解结垢过程。在电解结垢过程中，反应室16中维持的工作电流为直流疒25安培，在阴极(反应 室内壁)附近形成高浓度的氢氧根离子及碳酸根离子，这时PH值升高(pH> 9)，水中的钙 镁离子与氢氧根离子、碳酸根离子反应，生成氢氧化钙、氢氧化镁、碳酸钙、碳酸镁，以水垢 的形式附着在反应室16的内壁上。在氢气的作用下，在反应室16内壁形成的水垢属于疏松的软水垢，由于进水口 4与反应室16呈切线方向进水，水流流入反应室16内后会形成强大的旋流，由于水垢松软， 旋流能够很轻松的就能将水垢清洗干净。水垢能做到随产随走，随时保持罐壁的清洁，保证 罐壁水垢的附着量很低，这样可维持较高的电解效率，降低由于内壁的水垢厚度增加而带 来的电耗增加，因此，切线进水方案可以随时保持低能耗状态，节约能源。在阳极2附近，电流将水中的氯离子转化成游离氯，同时产生微量臭氧、氧自由 基、氢氧根自由基和双氧水。这一系列产物提供了杀菌效应，结合较高的直流电流及阴极附 近的高PH环境和阳极附近的低pH环境，维持了一个良好的消毒环境。上面已结合附图对本高新技术的具体实施方法进行了示例性的描述，显然本实用 新型不限于此，在本高新技术范围内进行的各种改型均没有超出本高新技术的保护范围。
权利要求1.一种循环水电解除垢装置，包括反应室(16)、进水口(4)及进水阀(7)、出水口(3)及 出水阀(6)、排污口(5)及排污阀(8)、阳极(2)、控制系统(18)、端盖(12)、支架(17)；端盖 (12)与反应室(16)上端通过螺栓(13)和密封垫(14)密封连接；其特征在于，所述的反应 室(16)内壁设有滤板安装环(9)，其上设有滤板(15)，滤板(15)将反应室(16)分为上、下 两部分，上部分的内壁涂衬环氧聚酯涂层；所述的阳极(2)通过密封环(11)穿过滤板(15) 并固定在端盖(12)上；所述的进水阀(7)与出水阀(6)之间设有通管(20)。
2.根据权利要求1所述的循环水电解除垢装置，其特征在于，所述的滤板(15)与滤板 安装环(9)通过螺栓和密封圈(10)压紧连接。
3.根据权利要求1所述的循环水电解除垢装置，其特征在于，所述的出水阀(6)、进水 阀(7)和排污阀(8)为气动阀或电动阀，其中出水阀(6)、进水阀(7)为三通阀，排污阀(8) 为直通阀。
4.根据权利要求1所述的，其特征在于，所述的出水阀(6)、进水阀(7)和排污阀(8)分 别通过控制线缆与控制系统(18)相连。
5.根据权利要求1所述的循环水电解除垢装置，其特征在于，所述的反应室(16)为碳 钢、不锈钢或铝材料。
6.根据权利要求1所述的循环水电解除垢装置，其特征在于，所述的控制系统(18)内 设有PLC或单片机。
专利摘要本高新技术公开了一种循环水电解除垢装置，包括反应室、进水口及进水阀、出水口及出水阀、排污口及排污阀、阳极、控制系统、端盖、支架；端盖与反应室上端通过螺栓和密封垫密封连接；反应室内壁设有滤板安装环，其上设有滤板，滤板将反应室分为上、下两部分，上部分的内壁涂衬环氧聚酯涂层；阳极通过密封环穿过滤板并固定在端盖上；进水阀与出水阀之间设有通管。本高新技术采用PLC控制自动除垢清洗，清洗稳定有效，反应中可生成游离氯，具有自动杀菌灭藻，去垢并软化水质的功能，一机多能，结构紧凑，稳固耐用，安全可靠。
文档编号C02F1/467GK201923867SQ20112003181
公开日2011年8月10日 申请日期2011年1月30日 优先权日2011年1月30日
发明者欧群飞 申请人:成都飞创科技有限公司
