专利名称：高新光响应层以及层组件技术
技术领域：
本发明涉及液体尤其是水的UV净化的技术领域。
背景技术：
众所周知，UV辐射可以杀死诸如细菌、病毒、霉菌、藻类、酵母菌和像隐孢子虫和贾第虫那样的卵囊(oocyst)之类的水中微生物。当前该知识被应用在各种以安全饮用水的生产为目的的水净化系统中。这种水净化系统的一个例子是并入水在其周围流动的UV灯的水净化系统。在所有这些系统中，UV源一减少水供给就停止是必要的，否则不安全的饮用水可能被生产并消费。可以由UV传感器于水净化应该发生之处检测UV强度，所述UV传感器当被连接于电磁阀时可以停止水流。这种UV探测器的一个例子在US3，413，465中被公开，其中公开了用于利用紫外辐射而对诸如饮用水之类的流体消毒的装置。公开于US3，413，465 中的装置包括被布置为控制水的流动的位于流体入口的阀组件。阀组件包括使用金属球的电磁阀以及由外部光化学单元(photochemical cell)控制的电磁体。当足够的UV辐射量被外部光化学单元探测到，电磁体被供能并且保持金属球以使得它提供打开的流体入口。 当太低的UV辐射量被光化学单元探测到，电磁体被关断，这导致阀中的金属球相反地覆盖流体入口，以使得没有流体可以通过装置。然而对于一些应用，期望更自主的响应。例如，在第三世界国家，有时利用太阳光的UV辐射光谱的UV部分来净化潜在的受污染的水。尤其是在利用太阳光作为UV源的地方，电力不总是可以得到的。然而，在灯操作的系统的情况下，自主系统也将是有利的。因此，在现有技术中仍然有找到水和其他流体的净化的新的技术方案的需求。
发明内容
本发明的一个目的是至少部分地克服上述问题，并且提供UV辐射控制的光响应层，所述光响应层例如可以被用在流体净化系统中的光响应层组件中。根据本发明的第一个方面，这个和其他目的由一种光响应层来实现，所述光响应层包括第一区域，所述第一区域包括第一材料，所述第一材料包括具有光响应部分 (photo-responsive moiety)的分子，其中当光响应部分暴露于光活化照射时，所述光响应层的第一区域能够进行可逆的几何改变。通过使用这样的光响应层，可能将光响应层的几何形状从当未暴露于光活化照射时的第一几何形状的第一状态，转变为当暴露于光活化照射时的第二几何形状的第二状态。有利地，当光响应部分未暴露于光活化照射时，第一区域能够进行相反的几何改变。从而，通过使用合适的光活化照射，光响应层可以在不活动状态和活动状态之间反复地可逆地转变。该层可以有利地被用来控制通过水净化系统的流动。 然而，该层也可以被用于其中期望通过照射进行几何的控制的其他技术应用，例如在功能表面的领域中。在本发明的实施例中，几何改变提供光响应层的形貌改变，诸如层的厚度的改变或者导致凸出和/或凹陷的形成的改变。在本发明的实施例中，光响应层的第一材料包括第一分子排列相。从而，相比使用包括随机分布分子的材料，几何改变的转变可以被增大。用于光活化照射的波长取决于使用哪种光响应部分。照射应该具有诱导光响应层中的光响应的波长。在本发明的实施例中，光活化照射是UV辐射，例如在IOOnm到400nm 范围内。通过使用响应于UV辐射的光活性部分，在例如水净化系统中提供对自主响应有用的层。在本发明的实施例中，第一材料是液晶聚合物材料，例如具有网络结构。通过使用液晶聚合物材料与光响应部分组合，可以获得分子排列的更宽范围的可能性。例如，第一分子排列相可以是诸如手性向列相之类的向列相。从而，当暴露于光活化照射时，液晶聚合物材料中的分子排列将例如改变为导致在Z方向上的几何延伸的各向同性排列，从而当暴露于光活化照射时提供在层的表面上的凸出。在本发明的实施例中，光响应部分是能够进行光异构化的部分。由于当进行几何改变时它是可逆的并且由于没有副产品被释放，这是优选的光反应。有利地，光响应部分包括诸如偶氮苯或其衍生物之类的偶氮化合物。可替代地，能够进行诸如反式/顺式转变之类的异构化的其他化合物可以被用于光响应部分。例如，可以使用螺恶嗪、二苯乙烯或其衍生物。发现被提供于具有分子排列的材料中的这样的部分当暴露于光活化照射时提供了分子排列和几何的有效改变。在本发明的实施例中，光响应层进一步包括第二区域，所述第二区域包括第二材料，所述第二材料可以是当暴露于光活化照射时能够进行可逆的几何改变的材料。第二材料可以具有不同于第一分子排列相的第二分子排列相，包括具有光响应部分的分子，其中当第二区域的光响应部分暴露于光活化照射时，第二区域能够进行几何改变，其中几何改变不同于第一区域的几何改变。通过使用这样的第二材料，可以提供光响应层，该光响应层提供了使用光活化照射来控制该层的几何形状的增加的可能性。例如，当暴露于光活化照射时，在第一区域中可以形成凸出，而在第二区域中可以形成凹陷，或者反之。优选地，第二材料是液晶聚合物材料。通过使用液晶聚合物材料与也位于第二区域中的光响应部分组合，可以实现不同形貌的宽范围的可能性。因此，分子排列可以取决于技术应用而变化。例如，第二分子排列相可以是垂直相。例如与包括向列相的第一区域组合，这是有利的，因为当暴露于光活化照射时，相比使用不响应于照射的第二区域，形貌将因此包括增加的形貌差别。优选地，当活化照射被中止时，第二区域能够进行相反的几何改变。在一些实施例中，在第二区域中使用各向同性相，即第二分子排列相可以是各向同性相，可能是有利的。对于由第一区域提供足够的几何改变的应用，这是优选的。在这些情况下，没有必要进一步使第二区域功能化，从而例如产品成本可以被降低。根据第二方面，本发明涉及光响应层组件，所述光响应层组件包括流体穿透层以及被布置接触于流体穿透层的根据本发明的光响应层，其中在光活化照射下光响应层能够进行形貌改变，所述形貌改变允许打开至少一个经过光响应层并且通过穿透层的流体通路，以使得允许通过光响应层组件的流体的流动或增加的流动。流体穿透层可以是其中层的至少一部分是透水的层以使得水可以通过穿透层被传输。
通过将光响应层和流体穿透层组合，可以构造宽范围的不同的有利的光响应层组件，例如用于响应于特定照射的水流控制膜。在本发明的实施例中，当未暴露于光活化照射时，光响应层组件具有范围在0到 1 μ m、优选地0到0. 02 μ m的最大平均流体通路或通道直径。从而，光响应层组件可以阻止水的流动或者起到滤水器的功能，所述滤水器当未暴露于光活化照射时允许水的流动但阻止诸如病毒和/或细菌之类的污染物通过层组件。因此，本发明提供了使用以下系统的可能性，所述系统当暴露于UV辐射时是打开的，也透过随后被UV辐射杀死的生物种类，而当没有UV辐照时允许水通过孔(或通道)流动，所述孔是如此小以至于生物种类被滤出。没有UV辐射时，水净化系统因而仍然继续工作，但是以低产量工作。根据第三方面，本发明涉及控制根据本发明的实施例的光响应层组件的方法，所述方法包括将光响应层暴露于UV辐射，以使得光响应层响应UV辐射而经历形貌改变，借此光响应层从穿透层的流体密闭布置或者低流动布置的状态，转变为穿透层的流体穿透布置或者高流动布置的状态，所述流体穿透布置包括至少一个经过光响应层到穿透层的流体通路，其中通过光响应层组件的流动被允许或增加。通过该方法，有可能使用光活化照射来控制水的流动。因此，本发明提供了不使用电传感器(和电磁阀)而取决于照射来控制水流的可能性。根据第四方面，本发明涉及包括具有流体入口和流体出口的UV辐射腔以及布置在流体入口或流体出口中的流动控制设备的流体净化设备，其中流体控制设备包括这里描述的光响应层组件。本发明因此提供了不需要电来操作和控制的流体净化系统。根据第五方面，本发明涉及生产根据本发明的光响应层的方法，所述方法包括提供衬底；向衬底施加复合物从而形成衬底上的层，其中复合物包括响应于UV辐射并且能够形成分子排列相的单体、和/或响应于UV辐射的单体以及能够形成分子排列相的单体、和光引发剂；通过光聚合选择性地聚合单体的第一区域；通过加热、施加电场或者外部磁场来重新布置第二区域中的单体；以及通过光聚合来允许第二区域聚合。根据第六方面，本发明涉及生产这里描述的光响应层的方法，所述方法包括在衬底上提供不连续的层；在没有被不连续层覆盖的衬底的至少一个区域上，施加包括光响应的单体以及可选的光引发剂的复合物，因而形成第一区域；可选地通过光聚合，来聚合第一区域的单体或允许所述单体聚合。在本发明的实施例中，光引发剂被大于400nm的波长激活。由于在本方法的聚合步骤期间光活性部分不进行光响应反应，所以当光响应部分响应于在诸如IOOnm到400nm 的UV范围内的照射时，这是有利的。根据第七方面，本发明涉及在用于水净化的系统中根据本发明的光响应层的使用。注意，本发明涉及权利要求书中记载的特征的所有可能组合。
现在将参照示意性地示出本发明的实施例的附图而更详细地描述本发明的这些方面和其他方面。如图中示出，为了示出的目的，层和区的尺寸被夸大，因此被提供来示出本发明的实施例的一般结构。
图Ia示出了包括根据本发明的实施例的光响应层的UV灯操作的水净化设备。图Ib示出了包括根据本发明的实施例的光响应层的太阳光操作的水净化设备。图加示出了不活动状态下的根据本发明的实施例的光响应层的实施例。图2b和图2c分别示出了活动状态下的根据本发明的实施例的光响应层的一个例子。图3示出了活动状态下的根据本发明的实施例的光响应层的不同实施例。图如和图4b示出了不活动状态(图4a)下和活动状态(图4b)下的根据本发明的实施例的光响应层组件的截面图。图如和图4d示出了不活动状态(图4c)下和活动状态(图4d)下的根据本发明的实施例的光响应层组件的截面透视图。图5示意性地示出了用于生产根据本发明的实施例的光响应层的第一种方法的步骤。图6a示出了用于提供本根据本发明的实施例的第二区域的网格层。图6b示意性地示出了用于生产根据本发明的实施例的光响应层的第二种方法的步骤。图7a和图7b示出了包括起皱双层结构的光响应层。
具体实施例方式本发明尤其涉及光响应层、包括光响应层的光响应层组件、使用光响应层控制液体的流动的方法、包括光响应层的流体净化设备和生产光响应层的方法。在随后的详细描述中，将描述本发明的优选实施例。然而，应该理解不同实施例的特征在实施例之间是可以交换的并且可以以不同的方式被组合，除非具体作出任何相反指示。图Ia示出了根据本发明的UV灯操作的流体净化设备的一个例子，而图Ib示出了根据本发明的太阳光驱动的水净化设备的一个例子。流体净化设备10包括具有流体入口 12和流体出口 13的UV辐射腔，以及包括布置于流体入口 12中的光响应层或层组件15的流动控制设备14。设备14也可以位于流体出口 13。UV灯16被布置为照射腔11中的流体并且因此杀死微生物。可替代地，太阳光17的UV成分被用来照射腔11中的流体，因此提供抗菌效果。这可以通过使用例如至少部分地包括UV透射层18的腔来实现。光响应层或层组件15被布置为控制通过净化设备10的腔11的水/流体的流动。 在活动状态下，即在光活化照射期间，光响应层允许通过流动控制设备的流动；而在不活动状态下，即当没有足够的光活化照射存在时，通过层组件的流动被阻止。可替代地，在不活动状态下，光响应层允许减少的水的流动并且可以起到滤水器的作用，所述滤水器具有允许水通过但滤出病毒、细菌和其他污染物阻止其通过层组件的狭窄通道。因此，取决于层是否被诸如UV辐射之类的光活化照射照射来控制液体/水的流动。本发明在水和其他液体的净化中有用，诸如用作UV激活阀。因此，可提供不依赖于电控制的阀来控制水的流动的水净化设备。并且，本发明可以被用作水/流体过滤器来改善任何类型的基于UV的净化系统的净化效率。另外，本发明也对许多其他技术应用有用，例如在微流体领域中的技术应用，其中光响应层可以被用作泵并且可以被用来创建临时的通道、存储腔或者反应容器。在该情况下，相反的效应也可以有用，即UV暴露下的关闭的通道而不是打开的通道。发明的光响应层以及层组件也可以被应用于期望响应于照射的几何改变的任何场合。根据本发明的光响应层包括至少一个包括第一材料的第一区域，所述第一材料包括具有光响应部分的分子，其中当所述光响应部分暴露于光活化照射时光响应层的第一区域能够进行可逆的几何改变。例如，层可以由包括光响应部分的材料制成，所述光响应部分由于当暴露于光活化照射时的化学反应或结构改变能够进行由相变(phase-shift)导致的几何改变。这样的相变可以是晶相或者液晶相的改变，但也可以对应于在包括随机排列分子的材料中获得的几何改变。例如，相变可以对应于由于导致低临界溶解温度(LCST)的移动的材料的照射而获得的几何改变。光响应层的第一材料可以包括具有包括光响应部分的分子排列相的第一区域。当暴露于照射时，光响应部分导致在ζ方向上的几何改变。从而，取决于是否暴露于光活化照射以及光响应层的构造，层的形貌 (topography)和厚度将改变。在光响应层只包含一种具有均勻含量和分子排列的材料的情况下，几何改变将导致层厚度的改变。在光响应层包含第一材料的第一区域以及第二不同材料的第二区域，其中第一材料包括具有光响应部分的分子的情况下，几何改变可以导致凸出和/或凹陷的形成。参考图2a，根据本发明的光响应层被示出在不活动状态下。根据该实施例，光响应层20包括第一区域21以及第二区域22，所述第一区域21包括具有第一分子排列相的第一材料，所述第一分子排列相包括具有光响应部分的分子，所述第二区域22包括第二材料。第一区域21被布置于层中来提供光响应层的光响应区。因此，当暴露于光活化照射时光响应层能够进行几何改变，导致诸如凸出(或者凹陷)的形成之类的形貌的改变。在优选实施例中，层包括多个第一区域和第二区域。图2b示出了在第一区域中形成凸出的光响应层，而图2c示出了在第一区域形成凹陷的光响应层。第一材料可以是任何包括当暴露于光活化照射时导致可逆的几何改变的光响应部分的材料。可选地，第一材料可以包括分子排列相。优选地，当呈现在第一区域的材料里的光响应部分从活动状态转变为不活动状态时，第一区域进行相反的几何改变。此处使用的“分子排列相”是指分子具有优先取向，或者具有一定程度的规律性或者晶体性。这样的相包括液晶相和各种类型的分子取向，例如向列相、手性向列相、近晶相、 手性近晶相、垂直相以及其他晶相。这样的相可以进一步包括液晶聚合物网络。此处使用的“光响应部分”是指提供于第一材料中的分子或者分子组，所述分子或者分子组当变得暴露于照射时进行例如光异构化的化学改变或者结构改变。此处使用的 “光响应”是光活性(photo-active)的同义词。光响应部分可以是偶氮化合物、螺恶嗪、二苯乙烯或者其衍生物。该部分可以共价键合或者静电附着于第一材料。第一材料可以由包括形成分子排列的化合物的单体和光响应单体的聚合物形成。例如，第一材料可以包括液晶聚合物材料以及作为光响应部分的偶氮苯部分。可替代地，第一材料可以由形成分子排列的单体形成，所述单体中的一些或全部包括光响应分子组。另外，第一材料可以可选地包括例如可以被用来控制材料的交联和粘性的其他额外的单体。此处使用的“光活化照射”被定义为特定类型的照射，响应于所述照射光响应层进行几何改变。被选择的光响应部分的类型将取决于技术应用以及使用哪种照射。例如，在偶氮苯作为光响应部分的情况下，使用的照射在UV范围内，优选地在从IOOnm到400nm的范围内。图2中的第二区域22可以包含不响应于照射的材料，例如非照射响应聚合物或者诸如金属之类的无机材料。例如，第二层可以是非光活性聚合物材料或者无机材料。可替代地，第二材料可以具有不同于第一分子排列相的第二分子排列相，包括具有光响应部分的分子。其中当第二区域的光响应部分暴露于照射时第二区域能够进行几何改变，其中该几何改变不同于第一区域的几何改变。这样的几何改变的一个例子在图 3中被示出。例如，第二材料可以是液晶聚合物材料，并且第二分子排列相可以是垂直相 (homeotropic phase)。可替代地，第二材料可以包括各向同性相。优选地，当不再暴露于照射时，第二区域能够进行相反的几何改变至不活动状态。取决于技术应用和/或生产考虑，层中的第一区域和第二区域的形状、尺寸及分布可以随期望而变化。在光响应层中第一区域和第二区域可以不规则地分布或者可以被布置成规则的图样。例如，层可以包括交替的第一区域和第二区域。几何改变取决于区域的布置以及光响应部分的类型与所使用的辐照波长结合。参考图如-d，示出了根据本发明的实施例的光响应层组件40，其中图如和图如示出了不活动状态下的光响应层组件40，而图4b和图4d示出了光响应层组件40的活动状态。根据该实施例，光响应层组件40包括流体穿透层42和光响应层41。穿透层42可以由多孔穿透膜43以及非穿透的膜载体44形成。例如，穿透层42可以包括具有多孔穿透膜 43适配在其中的开孔的、由金属制成的非穿透载体44。层组件40可以被用作膜或者阀，所述膜或者阀在活动状态期间允许水流动但在不活动状态期间阻止流体(例如包括污染物的水)的流动。不活动状态下(参见图如和图如)，光响应层41展示了阻止包括污染物的流体通过穿透层的流动的表面结构。例如，光响应层41可以是被布置接触穿透层42以使得不允许水通过穿透层42的穿透膜43的光滑层。可替代地，不活动状态下，光响应层41被布置以使得允许小的流体通路，在所述小的流体通路中水可以通过穿透部分但其中污染物不可以通过。这可以通过使用比要阻止通过层组件40污染物的尺寸小的流体通路来实现。暴露于光活化照射时，层41转变为活动状态41’，该活动状态41’是穿透层42的流体穿透布置或者高流动布置的状态(参见图4b和图4d)。由于光响应层暴露于光活化照射，所以诸如第一区域21之类的光活性区域进行诸如凸出47的形成之类的几何改变，所述几何改变导致在光响应层41和穿透层42之间形成至少一个流体通路或通道。流体通路 45允许例如水的流体通过光响应层组件40的流动/高流动，因为由于该几何改变流体被允许通过穿透层42的穿透部分43。因此，活动状态下，根据本发明的流体穿透组件因此包括至少一个经过或通过光响应层41和穿透层42的流体通路45，其中通过光响应层组件40 的流动被允许或增加。不活动状态下，光响应层组件40优选地具有范围在0 μ m到0. 02 μ m的最大平均通路直径。从而，光响应层组件可以起到滤水器的功能，所述滤水器容许水的流动但在不活动状态下阻止诸如病毒、细菌、原生动物和真菌之类的致病污染物通过层组件。活动状态下，流体通路直径大于0. 02 μ m,诸如在0. 02 μ m和5 μ m之间或者更高。在光响应组件的替代实施例中，当暴露于光活化照射时，第一区域21形成允许水通过穿透层42的凹陷。在光响应组件40的替代实施例中，穿透层42只由一种多孔并且容许通过材料的液体/流体的流动的材料形成。穿透层42或者穿透膜43的孔直径可以在0. 001 μ m到 1000 μ m的范围内，并且优选地在0. 01 μ m到10 μ m的范围内，甚至更优选地在0. 02 μ m到 Iym的范围内。可选地，层41和层42两层可以利用弹簧46被钳住，或者在它们边缘处被粘合在一起，并且使用水压来形成层之间的接触。本发明的进一步的方面涉及使用本发明的光响应层来控制流体的流动的方法，该方法包括将光响应层暴露于UV辐射，以使得光响应层响应于UV辐射进行形貌改变，借此光响应层从穿透层的流体密闭布置或者低流动布置(图如)的状态，转变为穿透层的流体穿透布置或者高流动布置或者高流动布置(图4b)的状态，所述流体穿透布置包括至少一个经过光响应层到穿透层的流体通路，其中通过光响应层组件的流动被允许或增加。将结合示范实施例的描述在下面进一步阐明该方法。总结起来，光(UV)响应组件在被照射时打开并且在没有光活化照射时关闭。下面提供若干能够提供该功能的光响应层的实施例，并且所述光响应层的实施例可以被应用于上述光响应组件中。本领域的技术人员意识到本发明决不限制于下面描述的优选实施例。 相反，在所附权利要求的范围内，许多修改和变化是可能的。示范实施例1本实施例对应于通过下面描述的生产方法来制备的图2b的光响应层。在本实施例中，光响应层包括材料，所述材料包括手性向列相(胆留)结构的第一区域的材料，所述材料因此包括交替的平面取向分子和随机取向分子。平面取向分子的区域形成第一区域， 而具有随机取向的分子的即各向同性的区域形成第二区域。在该例子中，相同的复合物被施加在衬底的表面上。第一区域和第二区域的材料包含基于表1中示出的单体和特定浓度的聚合材料。表1 实施例1中使用的单体的化学结构
权利要求
1.一种光响应层(20)，包括第一区域(21)，所述第一区域包括第一材料，所述第一材料包括具有光响应部分的分子，其中当所述光响应部分暴露于光活化照射时，所述光响应层00)的所述第一区域能够进行可逆的几何改变。
2.根据权利要求1所述的光响应层，其中所述第一材料包括第一分子排列相。
3.根据权利要求1或2所述的光响应层，其中所述几何改变提供所述光响应层OO)的形貌改变。
4.根据前述权利要求中的任意一项所述的光响应层，其中当所述光响应部分未暴露于光活化照射时，所述第一区域能够进行相反的几何改变。
5.根据前述权利要求中的任意一项所述的光响应层，其中所述第一材料是液晶聚合物材料。
6.根据前述权利要求中的任意一项所述的光响应层，其中所述第一分子排列相是向列相。
7.根据前述权利要求中的任意一项所述的光响应层，其中所述光响应部分是能够进行光异构化的部分。
8.根据前述权利要求中的任意一项所述的光响应层，进一步包括第二区域(22)，所述第二区域0 包括当暴露于光活化照射时能够进行可逆的几何改变的第二材料。
9.根据权利要求8所述的光响应层，其中所述第二区域0 包括具有不同于所述第一分子排列相的第二分子排列相的、包括具有光响应部分的分子的第二材料，其中当所述第二区域0 的所述光响应部分暴露于光活化照射时，所述第二区域0 能够进行几何改变，其中所述几何改变不同于所述第一区域的几何改变。
10.根据权利要求8或9所述的光响应层，其中所述第二材料是液晶聚合物材料。
11.一种光响应层组件(40)，包括-流体穿透层(42)，以及-被布置接触于所述穿透层G2)的、根据权利要求1-10中的任意一项所述的光响应层 (41),其中在光活化照射下，所述光响应层Gl)能够进行形貌改变，所述形貌改变允许打开至少一个经过所述光响应层Gl)和所述穿透层0 的流体通路(45)，从而允许通过所述光响应层组件GO)的流体的流动或增加的流动。
12.—种控制根据权利要求11所述的光响应层组件GO)的方法，包括将所述光响应层暴露于光活化照射，以使得所述光响应层Gl)进行响应于光活化照射的形貌改变，借此光响应层Gl)从所述流体穿透层0 的流体密闭布置或者低流动布置的状态，转变为所述流体穿透层0 的流体穿透布置或者高流动布置的状态，所述流体穿透布置包括至少一个经过所述光响应层到所述穿透层的流体通路(45)，其中通过所述光响应层组件00)的流动被允许或增加。
13.一种流体净化设备(10)，包括具有流体入口(12)和流体出口(13)的UV辐射腔 (11)、以及布置于所述流体入口(1 或流体出口(π)中的流动控制设备(14)，其中所述流动控制设备(14)包括根据权利要求1-10中的任意一项所述的光响应层00)或者根据权利要求11所述的光响应层组件GO)。
14.一种生产根据权利要求1-10中的任意一项所述的光响应层的方法，包括-提供衬底(51)，-在所述衬底上施加复合物从而形成衬底上的层(52)，其中所述复合物包括响应于UV 辐射并且能够形成分子排列相的单体、和/或响应于UV辐射的单体以及能够形成分子排列相的单体、和光引发剂，-通过光聚合选择性地聚合所述层的第一区域；-通过加热、施加电场或外部磁场，重新布置所述第二区域(2 中的单体；以及 -通过光聚合，允许所述第二区域0 聚合。
15. 一种生产根据权利要求1-10中的任意一项所述的光响应层的方法，包括 -在衬底(6 上提供不连续层(61)；-在未被所述不连续层覆盖的所述衬底的至少一个区上，施加包括光响应的单体和可选的光引发剂的复合物(63)，因而形成所述第一区域；以及-可选地通过光聚合，聚合所述第一区域的单体/允许所述第一区域的单体壞入水口 ο
全文摘要
本发明涉及可以例如在水净化设备中被用来控制液体的流动的光响应层以及层组件。根据本发明的光响应层包括第一区域，所述第一区域包括第一材料，所述第一材料包括具有光响应部分的分子，其中当所述光响应部分暴露于诸如UV辐射之类的光活化照射时，光响应层的第一区域能够进行可逆的几何改变。光响应层在例如用于水净化的UV控制的膜中是有用的。
文档编号C02F1/32GK102574704SQ201080046507
公开日2012年7月11日 申请日期2010年10月6日 优先权日2009年10月16日
发明者D·J·布罗尔, E·皮特斯 申请人:皇家飞利浦电子股份有限公司
