[0001]
本高新技术涉及显示屏加工领域，具体涉及一种屏幕的高温下气相反应用高压清洗装置。
背景技术：
[0002]
lcd(液晶显示)、oled(有机发光显示)屏幕领域的cvd(chemical vapor deposition的简称，即高温下的气相反应)工艺中,需向工件内部注入所需的气体，在这个工艺中须要使用表面打孔的扩散漫射板，而扩散漫射板通常长、宽都超过3m，规格较大，其约有16万个穿透扩散漫射板正、反表面的孔,而这些孔内因为工艺产生的异物最少要用100bar以上的高压水清洗。现有的高压水清洗主要才采用下面两种方案：
[0003]
1)手工清洗，这种清洗由于清洗水需要高压，而操作人员手持高压软管支撑力有限，水压稍微较高，操作人员就支持不了，所以操作人员能够手持支撑的状态，相对来说水压给的较低,这样操作人员就须反复清洗，但由于水压较小，清洗力度不够，很难达到清洗干净的要求。且清洗孔时,由于孔型的因素，清洗液须要垂直扩散漫射板水平直线冲洗,为此操作人员须要对扩散漫射板所有的孔水平喷射清洗液,这样手工清洗准确度低,清洗效率低。
[0004]
2)大型多关节机器人清洗,这种方案是通过采购的车间大型多关节机器人连接软管高压水清洗,虽然可根据大型多关节机器人设定坐标高压清洗,但是其一、成本很高,其二、大型多关节机器人的底座固定，一台大型多关节机器人无法同时进行两面清洗，这样通常还需行车对扩散漫射板翻面，或者用两台大型多关节机器人位于扩散漫射板正反两面同时清洗,前者清洗时间很长，后者设备成本还须上升。
技术实现要素：
[0005]
本高新技术目的是提供一种屏幕的高温下气相反应用高压清洗装置，成本较低，清洗高效、清洗时间短,且占地空间小,对扩散漫射板正反两面可同时自动高压清洗，不仅适用于cvd工艺中的扩散漫射板，也适用于有大量细微小孔的大面积产品。
[0006]
为了实现以上目的，本高新技术采用的技术方案为：一种屏幕的高温下气相反应用高压清洗装置，包括机架，机架的中间设置供扩散漫射板立置的容置部，容置部的两侧设置清洗单元，所述的清洗单元包括与立置的扩散漫射板平行布置的钢架，钢架上设置传动机构，所述的传动机构包括平行立置的扩散漫射板设置的立杆和位于立杆之间的水平导杆，所述的水平导杆沿立杆的设置方向上下可移，水平导杆上设置滑块，所述的滑块沿水平导杆的杆长方向来回可移，滑块上设置喷头组件，所述的喷头组件包括向滑块外侧伸展的多个喷头，该多个喷头喷射端垂直所述的钢架，喷头的进水端连接供水主机。
[0007]
进一步的，所述的喷头组件包括与滑块连接的接头座，接头座上设置旋转块，旋转块旁侧设置感应块，所述的旋转块的转轴垂直钢架布置，旋转块上设置气刀，气刀通过固定板固定于旋转块上，旋转块的正面固定有旋转杆，所述的旋转杆具有偏角，旋转杆的内端通
进水接头，所述的喷头喷射端设置于旋转杆的外端，旋转块的背面设置驱动马达，驱动马达的驱动齿轮的下方设置编码器，所述的驱动马达驱动气刀气动，所述的进水接头联通供水主机。
[0008]
再进一步的，所述的供水主机为250bar高压水主机，所述的250bar高压水主机采用abb变频驱动变频电机驱动输水。
[0009]
进一步的，所述的传动机构包括驱动水平导杆沿立杆的设置方向上下可移的第一丝杠机构和驱动滑块沿水平导杆的杆长方向来回可移的第二丝杠机构。
[0010]
进一步的，机架的水平面上垂直容置部方向设置推进杆，所述的清洗单元置于所述的推进杆上，且清洗单元沿推进杆的布置方向可移。
[0011]
再进一步的，机架的底部设置积水托盘，供水主机的输水端联通所述的积水托盘。
[0012]
再进一步的，所述的容置部为条形支撑槽。
[0013]
再进一步的，所述的喷头组件包括方形矩阵式布置的四个喷头。
[0014]
本高新技术的技术效果在于：采用本高新技术的一种屏幕的高温下气相反应用高压清洗装置，成本较低，清洗高效、清洗时间短,且占地空间小,对扩散漫射板正反两面可同时自动高压清洗，实际清洗水压最大调至250bar。不仅适用于cvd工艺中的扩散漫射板，也适用于有大量细微小孔的大面积产品。
附图说明
[0015]
图1为本高新技术的俯视结构图；
[0016]
图2为本高新技术的侧视结构图；
[0017]
图3为本高新技术水平导杆上设置滑块及喷头组件的俯视结构图；
[0018]
图4为本高新技术喷头组件的右侧剖视结构图；
[0019]
图5为本高新技术喷头组件的左侧视结构图；
[0020]
图6为本高新技术喷头组件的后视结构图。
具体实施方式
[0021]
参照附图，一种屏幕的高温下气相反应用高压清洗装置，包括机架10，机架10的中间设置供扩散漫射板立置的容置部11，容置部11的两侧设置清洗单元20，所述的清洗单元20包括与立置的扩散漫射板平行布置的钢架21，钢架21上设置传动机构22，所述的传动机构22包括平行立置的扩散漫射板设置的立杆22a和位于立杆22a之间的水平导杆22b，所述的水平导杆22b沿立杆22a的设置方向上下可移，水平导杆22b上设置滑块23，所述的滑块23沿水平导杆22b的杆长方向来回可移，滑块23上设置喷头组件24，所述的喷头组件24包括向滑块23外侧伸展的多个喷头24a，该多个喷头24a喷射端垂直所述的钢架21，喷头24a的进水端连接供水主机。扩散漫射板立置于容置部11处，传动机构22带动滑块23沿立杆22a的布置方向上下自由运动以及水平导杆22b的布置方向左右自由运动，这样滑块23上的喷头组件24以及其他部件随滑块23在平行立置的扩散漫射板两侧可自由活动，而滑块23上设置喷头组件24的多个喷头24a喷射端垂直钢架21即垂直立置的扩散漫射板形成水平直线冲洗。
[0022]
进一步的，所述的喷头组件24包括与滑块23连接的接头座，接头座上设置旋转块24c，旋转块24c旁侧设置感应块24g，所述的旋转块24c的转轴垂直钢架21布置，旋转块24c
上设置气刀24h，气刀24h通过固定板24e固定于旋转块24c上，旋转块24c的正面固定有旋转杆，所述的旋转杆具有偏角，旋转杆的内端通进水接头24d，所述的喷头24a喷射端设置于旋转杆的外端，旋转块24c的背面设置驱动马达24b，驱动马达24b的驱动齿轮的下方设置编码器24f，所述的驱动马达24b驱动气刀24h气动，所述的进水接头24d联通供水主机。滑块23上的旋转杆在平行立置的扩散漫射板的平面内自由转动，具体的，设置的感应块24g感应到扩散漫射板，系统启动喷头组件24工作，进水接头24d高压进水，由于旋转杆设置偏角，旋转杆在水压的作用下自动高速旋转，与进水接头24d联通的喷头24a喷射端转动并自出水清洗，这里说明下进水接头24d与喷头24a喷射端的进水端是套管套筒式连接，转动的中心即这个套管套筒的连接轴心；并且气刀24h在编码器作用下根据清洗工况精确气动，达到对清洗后的扩散漫射板的孔迅速风干的作用，避免清洗水滞留于孔内造成的堵塞等影响。
[0023]
再进一步的，所述的供水主机为250bar高压水主机，所述的250bar高压水主机采用abb变频驱动变频电机驱动输水。
[0024]
进一步的，所述的传动机构22包括驱动水平导杆22b沿立杆22a的设置方向上下可移的第一丝杠机构和驱动滑块23沿水平导杆22b的杆长方向来回可移的第二丝杠机构。
[0025]
进一步的，机架10的水平面上垂直容置部11方向设置推进杆12，所述的清洗单元20置于所述的推进杆12上，且清洗单元20沿推进杆12的布置方向可移。设置的推进杆12供清洗单元20向容置部11处的扩散漫射板平行移动，移动至恰当位置固定，更便于清洗。
[0026]
再进一步的，机架10的底部设置积水托盘，供水主机的输水端联通所述的积水托盘。设置的积水托盘对清洗水收集再利用，节约资源达到进一步降低成本的效果。
[0027]
再进一步的，所述的容置部11为条形支撑槽。
[0028]
再进一步的，所述的喷头组件24包括方形矩阵式布置的四个喷头24a。
[0029]
采用本高新技术的一种屏幕的高温下气相反应用高压清洗装置，成本较低，清洗高效、清洗时间短,且占地空间小,对扩散漫射板正反两面可同时自动高压清洗，实际清洗水压最大调至250bar。不仅适用于cvd工艺中的扩散漫射板，也适用于有大量细微小孔的大面积产品。
[0030]
传动机构22的水平导杆22b、立杆22a配合第一丝杠机构、第二丝杠机构，第一丝杠机构、第二丝杠机构的驱动端设置液压马达，构成二轴液压移动机构，二轴液压移动机构可通过调节液压油流量的方式来调节运动的速度，二轴液压移动机构采用耐用度极高的液压驱动系统及滚轮轨道梁结构，适应潮湿的工作环境，其第一丝杠机构、第二丝杠机构采用t型丝杆传动方式传动，并在丝杠上采用尼龙套作为导套，可有效的防止车间灰尘等杂质的污染而引起传动的卡顿。喷头组件24的喷头24a喷射端即喷嘴采用旋转的多分支喷杆构成旋转杆，在水压的作用下自动高速旋转，并通过调节旋转杆的偏角来调节转动速度。无需提供外部动力，节约能源成本。气刀24h形成自动风干系统(高压风刀从上往下扫描方式吹干)达到扩散漫射板风干效果。供水主机采用250bar高压水主机，这样提供清洗执行机构(喷头组件24)所需250bar压力的高压水，穿透力强，针对密集孔板材产品(本高新技术的处理对象扩散漫射板)有更好的清洗效果，比人工清洗在清洗位置、清洗速度、清洗精准度及稳定性上都有很大的提升，保证了密集孔板材产品的合格率。且本高新技术250bar高压水主机采用abb变频驱动变频电机驱动，供水系统采用兼并补偿式控制方式可自行调节水的流量以及压力的大小。满足不同密集孔板材产品的清洗需求。
[0031]
本高新技术的所有驱动采用液压马达驱动。液压驱动系统，其一、可以在潮湿的环境中运行，其二、活动范围固定，不会出现机器伤人事故。且传动机构22采用的二轴液压移动机构占地空间小，安装成本低，后期维护成本低。完全自行运行，无需人员看护。
[0032]
以下为本高新技术装置的部件的具体参数：
[0033]
供水主机(型号：fs 90/25vf；陶瓷柱塞泵；90l/min,250bar；西门子moto/abb变频驱动)
[0034]
液压驱动系统采用的控制柜(型号：fs hpc-2x d；液压驱动数控系统；西门子plc自动程序；ac380v，3p，7.5kw；max可控水压：250bar；max可控水流量：160l/min)
[0035]
传动机构22(型号：fs hpc-2x d；运动范围：x：5400mm；y：3200mm；清洗范围：x：5800mm；y：3800mm；高压水上下扫描方式清洗；高压风刀上下扫描方式清洗；y轴镜面sus管导向，双梯形sus丝杆；同步大跨距驱动；x轴6m滚轮尺条梁，免润滑、防锈；高压水自旋转清洗圆盘，清洗直径；470mm，转速2000rpm)
[0036]
进水接头(24d)联通供水主机采用高压软管(工作压力400bar，10m)
[0037]
积水托盘(采用sus材质)。
[0038]
进一步的，扩散漫射板立置于容置部11，容置部11与设置的清洗单元20的间距为150mm；150mm是最优的由喷头24a喷出直线水柱经过扩散漫射板孔的距离；距离＞150mm，直线水柱清洗孔的效果会减弱；距离＜150mm，扩散漫射板表面增加受损的风险；喷头24a为特定的0
°
型号(水平喷射)；供水主机增压后的超纯水，通过0
°
喷头后形成直线式的水柱，向扩散漫射板上的孔进行喷射；清洗单元20可两面同时进行工作，以确保扩散漫射板孔内的异物彻底清除；喷头组件24的旋转和转速，是通过调整四个喷头24a当中任意数量的角度来实现的，无额外动力支持；调整喷头24a角度的数量越多，角度越小，喷头组件24的转速越高。清洗单元20沿推进杆12的布置方向可移，并且移动的距离(速度)可设定；事先检查每个扩散漫射板孔内的异物的多少，调整清洗的速率，以保证达到最优的清洗效果；利用电磁阀的通断实现对气刀24h的供气、停气；两组气刀24h(两侧设置清洗单元20)可随着清洗单元20一起运动，沿推进杆12的布置方向可移，并且移动的距离(速度)可设定；清洗完成后根据扩散漫射板孔内的残留水分的多少，调整干燥的速率，以保证达到最优的干燥效果。
技术特征：
1.一种屏幕的高温下气相反应用高压清洗装置，其特征在于：包括机架(10)，机架(10)的中间设置供扩散漫射板立置的容置部(11)，容置部(11)的两侧设置清洗单元(20)，所述的清洗单元(20)包括与立置的扩散漫射板平行布置的钢架(21)，钢架(21)上设置传动机构(22)，所述的传动机构(22)包括平行立置的扩散漫射板设置的立杆(22a)和位于立杆(22a)之间的水平导杆(22b)，所述的水平导杆(22b)沿立杆(22a)的设置方向上下可移，水平导杆(22b)上设置滑块(23)，所述的滑块(23)沿水平导杆(22b)的杆长方向来回可移，滑块(23)上设置喷头组件(24)，所述的喷头组件(24)包括向滑块(23)外侧伸展的多个喷头(24a)，该多个喷头(24a)喷射端垂直所述的钢架(21)，喷头(24a)的进水端连接供水主机。2.根据权利要求1所述的一种屏幕的高温下气相反应用高压清洗装置，其特征在于：所述的喷头组件(24)包括与滑块(23)连接的接头座，接头座上设置旋转块(24c)，旋转块(24c)旁侧设置感应块(24g)，所述的旋转块(24c)的转轴垂直钢架(21)布置，旋转块(24c)上设置气刀(24h)，气刀(24h)通过固定板(24e)固定于旋转块(24c)上，旋转块(24c)的正面固定有旋转杆，所述的旋转杆具有偏角，旋转杆的内端通进水接头(24d)，所述的喷头(24a)喷射端设置于旋转杆的外端，旋转块(24c)的背面设置驱动马达(24b)，驱动马达(24b)的驱动齿轮的下方设置编码器(24f)，所述的驱动马达(24b)驱动气刀(24h)气动，所述的进水接头(24d)联通供水主机。3.根据权利要求1或2所述的一种屏幕的高温下气相反应用高压清洗装置，其特征在于：所述的供水主机为250bar高压水主机，所述的250bar高压水主机采用abb变频驱动变频电机驱动输水。4.根据权利要求1所述的一种屏幕的高温下气相反应用高压清洗装置，其特征在于：所述的传动机构(22)包括驱动水平导杆(22b)沿立杆(22a)的设置方向上下可移的第一丝杠机构和驱动滑块(23)沿水平导杆(22b)的杆长方向来回可移的第二丝杠机构。5.根据权利要求1所述的一种屏幕的高温下气相反应用高压清洗装置，其特征在于：机架(10)的水平面上垂直容置部(11)方向设置推进杆(12)，所述的清洗单元(20)置于所述的推进杆(12)上，且清洗单元(20)沿推进杆(12)的布置方向可移。6.根据权利要求1或5所述的一种屏幕的高温下气相反应用高压清洗装置，其特征在于：机架(10)的底部设置积水托盘，供水主机的输水端联通所述的积水托盘。7.根据权利要求6所述的一种屏幕的高温下气相反应用高压清洗装置，其特征在于：所述的容置部(11)为条形支撑槽。8.根据权利要求7所述的一种屏幕的高温下气相反应用高压清洗装置，其特征在于：所述的喷头组件(24)包括方形矩阵式布置的四个喷头(24a)。
技术总结
本高新技术涉及一种屏幕的高温下气相反应用高压清洗装置，包括机架，机架的中间设置供扩散漫射板立置的容置部，容置部的两侧设置清洗单元，所述的清洗单元包括与立置的扩散漫射板平行布置的钢架，钢架上设置传动机构，所述的传动机构包括平行立置的扩散漫射板设置的立杆和位于立杆之间的水平导杆，所述的水平导杆沿立杆的设置方向上下可移，水平导杆上设置滑块，所述的滑块沿水平导杆的杆长方向来回可移，滑块上设置喷头组件，所述的喷头组件包括向滑块外侧伸展的多个喷头，该多个喷头喷射端垂直所述的钢架，喷头的进水端连接供水主机。对扩散漫射板正反两面可同时自动高压清洗，成本较低，清洗高效且占地空间小适用于CVD工艺中的扩散漫射板产品。工艺中的扩散漫射板产品。工艺中的扩散漫射板产品。
技术开发人、权利持有人：高圣根 朱东海
